NanoFiltech
ภาษาไทย

การขยายการผลิตชิป AI ผลักดันความต้องการระบบกรองอากาศในห้องคลีนรูมสำหรับเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง

สร้างใน 10.26

การขยายการผลิตชิป AI ผลักดันความต้องการระบบกรองอากาศในห้องสะอาดสำหรับเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง

0

อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์กำลังเข้าสู่คลื่นลูกใหม่ของการขยายห้องสะอาด

การพัฒนาอย่างรวดเร็วของปัญญาประดิษฐ์กำลังปรับเปลี่ยนภูมิทัศน์การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ทั่วโลก
เมื่อความต้องการโปรเซสเซอร์ AI หน่วยความจำขั้นสูง การเชื่อมต่อออปติคัลความเร็วสูง และอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์รุ่นใหม่เพิ่มขึ้น ผู้ผลิตทั่วทั้งห่วงโซ่อุปทานเซมิคอนดักเตอร์กำลังขยายกำลังการผลิตและลงทุนในโครงสร้างพื้นฐานการผลิตใหม่
ในเดือนกันยายน 2026 ASML ได้ประกาศเริ่มการก่อสร้างวิทยาเขตการผลิตแห่งใหม่ BIC North ในประเทศเนเธอร์แลนด์ การขยายตัวนี้คาดว่าจะรวมถึงพื้นที่ห้องสะอาด (cleanroom) แห่งใหม่ที่รองรับการประกอบอุปกรณ์การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง
ในขณะเดียวกัน ผู้ผลิตเซมิคอนดักเตอร์และบริษัทเทคโนโลยีต่างๆ ยังคงเพิ่มกำลังการผลิตสำหรับชิ้นส่วนที่รองรับศูนย์ข้อมูล AI และการประมวลผลประสิทธิภาพสูงอย่างต่อเนื่อง
เบื้องหลังการลงทุนครั้งใหญ่ในเซมิคอนดักเตอร์เหล่านี้ มีข้อกำหนดด้านโครงสร้างพื้นฐานที่ได้รับความสนใจจากสาธารณชนน้อยกว่ามาก:
การควบคุมการปนเปื้อนขั้นสูงและการกรองอากาศในห้องสะอาดสำหรับเซมิคอนดักเตอร์
เมื่อกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์มีความซับซ้อนมากขึ้น การควบคุมอนุภาคในอากาศ สารปนเปื้อนระดับโมเลกุล และสภาวะการไหลของอากาศจึงกลายเป็นสิ่งสำคัญต่อการรักษาสภาพแวดล้อมการผลิตที่มั่นคง

เหตุใดการกรองอากาศจึงมีความสำคัญในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์

การผลิตเซมิคอนดักเตอร์เกิดขึ้นในสภาพแวดล้อมที่ควบคุมอย่างเข้มงวด ซึ่งแม้แต่สารปนเปื้อนในอากาศที่มีขนาดเล็กมากก็สามารถรบกวนกระบวนการผลิตที่ละเอียดอ่อนได้
สารปนเปื้อนที่อาจเกิดขึ้น ได้แก่:
  • อนุภาคละเอียดและอนุภาคละเอียดพิเศษ
  • l อนุภาคที่เกิดจากกระบวนการ
  • l สารปนเปื้อนในบรรยากาศภายนอก
  • l ก๊าซที่เป็นกรดและด่าง
  • l สารประกอบอินทรีย์ระเหยง่าย (VOCs)
  • l การปนเปื้อนระดับโมเลกุลในอากาศ (AMC)
ดังนั้น โรงงานผลิตเซมิคอนดักเตอร์สมัยใหม่จึงต้องพึ่งพาระบบกรองอากาศหลายขั้นตอนแทนการใช้ตัวกรองเพียงตัวเดียว
ระบบบำบัดอากาศในห้องสะอาดทั่วไปอาจประกอบด้วย:
การกรองขั้นต้น → การกรองประสิทธิภาพปานกลาง → การกรอง HEPA/ULPA → การกรองปลายทางด้วย FFU
ขึ้นอยู่กับข้อกำหนดของกระบวนการ อาจมีการนำการกรองสารเคมีมาใช้เพิ่มเติมเพื่อควบคุมสารปนเปื้อนระดับโมเลกุลในอากาศ
สิ่งนี้ทำให้การกรองเป็นส่วนสำคัญของโครงสร้างพื้นฐานการควบคุมการปนเปื้อนในเซมิคอนดักเตอร์

ตัวกรอง HEPA และ ULPA สำหรับห้องสะอาดเซมิคอนดักเตอร์

การกรอง HEPA

ตัวกรองอนุภาคประสิทธิภาพสูง (HEPA) ถูกใช้อย่างแพร่หลายในระบบ HVAC ของห้องสะอาด ระบบกรองปลายทาง และชุดพัดลมกรอง
ตัวกรองเหล่านี้ให้การกำจัดอนุภาคประสิทธิภาพสูงพร้อมทั้งรองรับข้อกำหนดด้านความสะอาดของสภาพแวดล้อมการผลิตที่ถูกควบคุม
การใช้งานทั่วไป ได้แก่:
  • · การกรองเพดานห้องคลีนรูม
  • · ชุดกรองพัดลม (FFUs)
  • · ชุดจัดการอากาศ (AHUs)
  • · สภาพแวดล้อมขนาดเล็กสำหรับอุปกรณ์
  • · พื้นที่การผลิตเซมิคอนดักเตอร์
  • · ห้องคลีนรูมสำหรับการผลิตอิเล็กทรอนิกส์
สำหรับกระบวนการที่มีความต้องการสูงขึ้น อาจจำเป็นต้องใช้ประสิทธิภาพการกรองที่สูงขึ้น

การกรองแบบ ULPA

ตัวกรอง Ultra Low Penetration Air (ULPA) ได้รับการออกแบบสำหรับการใช้งานที่ต้องการประสิทธิภาพการกำจัดอนุภาคสูงมาก
โดยทั่วไปแล้วตัวกรองเหล่านี้ได้รับการพิจารณาสำหรับสภาพแวดล้อมเซมิคอนดักเตอร์ที่สำคัญ ซึ่งความเข้มข้นของอนุภาคในอากาศต้อง维持在ระดับที่ต่ำมากเป็นพิเศษ
การใช้งานทั่วไป ได้แก่ การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง การประมวลผลเวเฟอร์ อิเล็กทรอนิกส์ความแม่นยำสูง และสภาพแวดล้อมการผลิตที่สะอาดพิเศษอื่นๆ
อย่างไรก็ตาม ประสิทธิภาพการกรองเพียงอย่างเดียวไม่เพียงพออีกต่อไป
เมื่อปริมาณการไหลของอากาศในห้องคลีนรูมเพิ่มขึ้น การลดลงของแรงดันกลายเป็นอีกหนึ่งปัจจัยสำคัญที่ต้องพิจารณา

ทำไมการลดแรงดันตกจึงสำคัญในห้องคลีนรูมสมัยใหม่

ระบบ HVAC และ FFU ในห้องคลีนรูมหมุนเวียนอากาศที่ผ่านการกรองปริมาณมากอย่างต่อเนื่อง
ตัวกรองทุกตัวสร้างความต้านทานต่อการไหลของอากาศ
เมื่อแรงดันตกเพิ่มขึ้น พัดลมต้องใช้พลังงานเพิ่มเติมเพื่อรักษาการไหลของอากาศที่ต้องการ เมื่อตัวกรองปลายทางหลายร้อยหรือหลายพันตัวทำงานอย่างต่อเนื่อง ความแตกต่างของความต้านทานตัวกรองสามารถส่งผลต่อการใช้พลังงานโดยรวมของโรงงาน
นี่คือเหตุผลที่การกรองในห้องคลีนรูมเซมิคอนดักเตอร์สมัยใหม่มุ่งเน้นการบรรลุสองเป้าหมายพร้อมกันมากขึ้น:
ประสิทธิภาพการกรองสูง + ความต้านทานการไหลของอากาศต่ำ
สื่อกรองขั้นสูงจึงมีบทบาทสำคัญมากขึ้น

สื่อกรองนาโนไฟเบอร์: รองรับประสิทธิภาพสูงและความต้านทานต่ำ

เทคโนโลยีการกรองนาโนไฟเบอร์นำเสนอแนวทางอีกทางหนึ่งสำหรับการกรองอนุภาคประสิทธิภาพสูง
โครงสร้างเส้นใยที่มีความละเอียดสูงเป็นพิเศษสร้างชั้นกรองที่สามารถดักจับอนุภาคขนาดเล็กได้ ในขณะเดียวกันก็ช่วยให้สามารถออกแบบโครงสร้างตัวกรองให้มีความต้านทานการไหลของอากาศที่ค่อนข้างต่ำได้
เมื่อเปรียบเทียบกับโซลูชันการกรองที่พึ่งพาโครงสร้างสื่อกรองแบบดั้งเดิมที่หนากว่าเป็นหลัก สื่อกรองนาโนไฟเบอร์ที่ออกแบบอย่างเหมาะสมสามารถให้ความสมดุลที่เป็นประโยชน์ระหว่าง:
  • · ประสิทธิภาพการดักจับอนุภาคสูง
  • · ความดันลดเริ่มต้นต่ำ
  • · ประสิทธิภาพการไหลของอากาศที่เสถียร
  • · โครงสร้างสื่อกรองน้ำหนักเบา
  • · การกรองที่ประหยัดพลังงาน
คุณลักษณะเหล่านี้ทำให้เทคโนโลยีการกรองนาโนไฟเบอร์มีความเกี่ยวข้องเป็นพิเศษกับการใช้งาน HVAC ในห้องสะอาดและ FFU ซึ่งต้องกรองอากาศปริมาณมากอย่างต่อเนื่อง

การกรองทางเคมีสำหรับการปนเปื้อนระดับโมเลกุลในอากาศ

อนุภาคไม่ใช่ความท้าทายด้านการปนเปื้อนเพียงอย่างเดียวในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์
กระบวนการบางอย่างอาจได้รับผลกระทบจากการปนเปื้อนระดับโมเลกุลในอากาศ (AMC) ด้วย
สิ่งปนเปื้อนโมเลกุลทั่วไปอาจรวมถึง:
  • · ก๊าซกรด
  • · ก๊าซอัลคาไลน์
  • · สารประกอบอินทรีย์ระเหยง่าย
  • · สิ่งปนเปื้อนอินทรีย์
  • · ไอระเหยสารเคมีที่เกี่ยวข้องกับกระบวนการ
แตกต่างจากตัวกรอง HEPA และ ULPA ซึ่งควบคุมสิ่งปนเปื้อนแบบอนุภาคเป็นหลัก ตัวกรองเคมีใช้สื่อดูดซับเฉพาะทางเพื่อกำจัดสิ่งปนเปื้อนที่เป็นก๊าซเฉพาะออกจากกระแสอากาศ
ด้วยเหตุนี้ สถานประกอบการเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูงจึงอาจรวม:
การกรองอนุภาค + การกรองเคมี
เพื่อสร้างกลยุทธ์การควบคุมการปนเปื้อนที่ครอบคลุมมากขึ้น

ระบบ FFU และการกรองห้องสะอาดแบบปลายทาง

Fan Filter Unit (FFU) เป็นอีกองค์ประกอบสำคัญของระบบการไหลเวียนอากาศในห้องสะอาดเซมิคอนดักเตอร์
FFU รวมพัดลมเข้ากับตัวกรองประสิทธิภาพสูงเพื่อจ่ายอากาศที่ผ่านการกรองโดยตรงเข้าสู่สภาพแวดล้อมที่ควบคุม
ห้องสะอาดเซมิคอนดักเตอร์ขนาดใหญ่อาจใช้งานเครือข่าย FFU จำนวนมากเพื่อรักษา:
  • · การไหลเวียนอากาศที่ต้องการ
  • · ความสะอาดของห้อง
  • · ความสัมพันธ์ของแรงดัน
  • · ขีดจำกัดความเข้มข้นของอนุภาค
  • · สภาวะแวดล้อมที่มั่นคง
งานวิจัยห้องคลีนรูมล่าสุดยังได้เน้นย้ำถึงความสำคัญของการประสานการไหลของอากาศระหว่าง AHU และ FFU เพื่อรักษาสภาวะความดันในห้องคลีนรูมให้เหมาะสม
ซึ่งหมายความว่าการออกแบบห้องคลีนรูมในอนาคตกำลังก้าวข้ามจากการพิจารณาองค์ประกอบแต่ละส่วนไปสู่การปรับแต่งการไหลของอากาศและการกรองในระดับระบบมากขึ้น

โซลูชันการกรองอากาศ NanoFiltech สำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์

ในขณะที่กำลังการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ยังคงขยายตัว ระบบกรองจะต้องรองรับข้อกำหนดที่ท้าทายมากขึ้นในด้านความสะอาด ความเสถียรของการไหลของอากาศ และประสิทธิภาพพลังงาน
NanoFiltech ให้บริการผลิตภัณฑ์กรองอากาศและสื่อกรองประสิทธิภาพสูงสำหรับห้องคลีนรูมและการใช้งาน HVAC ในอุตสาหกรรม
กลุ่มผลิตภัณฑ์กรองสำหรับเซมิคอนดักเตอร์และห้องคลีนรูมของเราประกอบด้วย:

ตัวกรอง HEPA

ออกแบบมาสำหรับการกรองอนุภาคที่มีประสิทธิภาพสูงในระบบ HVAC ของห้องสะอาด ระบบกรองแบบปลายทาง และสภาพแวดล้อมควบคุมอื่นๆ

ตัวกรอง ULPA

โซลูชันการกรองประสิทธิภาพสูงสำหรับการใช้งานที่ต้องการควบคุมอนุภาคในอากาศอย่างเข้มงวดเป็นพิเศษ

ชุดพัดลมกรอง (FFU)

ระบบพัดลมและระบบกรองแบบบูรณาการที่ออกแบบมาสำหรับการใช้งานเพดานห้องคลีนรูมและสภาพแวดล้อมการผลิตที่ควบคุม

ตัวกรองเคมี

โซลูชันการกรองที่ออกแบบมาเพื่อช่วยควบคุมสารปนเปื้อนในสถานะก๊าซและการปนเปื้อนระดับโมเลกุลในอากาศในสภาพแวดล้อมการผลิตที่ละเอียดอ่อน

NANOAIRสื่อกรองนาโนไฟเบอร์

สื่อกรองนาโนไฟเบอร์ประสิทธิภาพสูงที่พัฒนาขึ้นเพื่อผสานประสิทธิภาพการกรองสูงเข้ากับความต้านทานการไหลของอากาศต่ำ

CHEMCAREสื่อกรองเคมี

สื่อดูดซับเชิงหน้าที่ที่ออกแบบมาสำหรับการใช้งานที่ต้องการควบคุมก๊าซและสารปนเปื้อนระดับโมเลกุล
เทคโนโลยีเหล่านี้เมื่อรวมกันช่วยให้สามารถกำหนดค่าระบบกรองตามระดับความสะอาด ข้อกำหนดการไหลของอากาศ และกลยุทธ์การควบคุมการปนเปื้อนที่แตกต่างกัน

จากประสิทธิภาพของตัวกรองสู่ประสิทธิภาพโดยรวมของห้องคลีนรูม

การขยายตัวของอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์กำลังเปลี่ยนวิธีที่ควรประเมินการกรองในห้องคลีนรูม
การเลือกตัวกรองตามประสิทธิภาพ nominal เท่านั้นกำลังไม่เพียงพอมากขึ้นเรื่อยๆ
วิศวกรห้องคลีนรูมและผู้ปฏิบัติงานด้านสิ่งอำนวยความสะดวกควรพิจารณาโปรไฟล์การทำงานที่สมบูรณ์ ซึ่งรวมถึง:
  • · ประสิทธิภาพการกรอง
  • · ความดันตกเริ่มต้น
  • · การพัฒนาความดันตก
  • · ความต้องการด้านการไหลของอากาศ
  • · ลักษณะของอนุภาค
  • · ความเสี่ยงจากการปนเปื้อนระดับโมเลกุล
  • · อายุการใช้งานของตัวกรอง
  • · การใช้พลังงานของ HVAC
  • · สภาวะการทำงานของห้องสะอาด
วัตถุประสงค์ไม่ใช่เพียงการติดตั้งตัวกรองที่มีประสิทธิภาพสูงขึ้นเท่านั้น
วัตถุประสงค์คือการสร้างระบบกรองที่รักษาระดับความสะอาดที่ต้องการ พร้อมทั้งสนับสนุนการทำงานของห้องสะอาดที่มั่นคงและประหยัดพลังงาน

การเตรียมความพร้อมระบบกรองห้องสะอาดสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ยุคถัดไป

AI การประมวลผลขั้นสูง และอิเล็กทรอนิกส์ยุคถัดไปกำลังเร่งการลงทุนทั่วทั้งห่วงโซ่อุปทานเซมิคอนดักเตอร์
เมื่อมีการก่อสร้างโรงงานผลิตใหม่ สถานที่ผลิตอุปกรณ์ และห้องคลีนรูมขั้นสูง การกรองอากาศจะยังคงเป็นส่วนพื้นฐานของการควบคุมการปนเปื้อนในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์
ระบบกรองอากาศในห้องสะอาดรุ่นต่อไปจะต้องการการผสมผสานของ:
ประสิทธิภาพสูงขึ้น ความต้านทานต่ำลง สื่อกรองขั้นสูง การควบคุม AMC การจัดการการไหลของอากาศอัจฉริยะ การใช้พลังงานตลอดอายุการใช้งานต่ำลง
NanoFiltech ยังคงพัฒนาวัสดุกรองขั้นสูงและโซลูชันการกรองอากาศสำหรับสภาพแวดล้อมการผลิตที่มีความสะอาดสูงในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ อิเล็กทรอนิกส์ เภสัชกรรม และอื่นๆ
สำหรับโครงการห้องสะอาดในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ NanoFiltech สามารถสนับสนุนการเลือกตัวกรองตามประสิทธิภาพที่ต้องการ การไหลของอากาศ ความดันตกคร่อม การกำหนดค่าการติดตั้ง และข้อกำหนดในการควบคุมการปนเปื้อน
ติดต่อ NanoFiltech เพื่อหารือเกี่ยวกับโซลูชันตัวกรอง HEPA, ULPA, FFU, การกรองสารเคมี และสื่อกรองนาโนไฟเบอร์สำหรับโครงการห้องสะอาดของคุณ
Tey Jun Yong / Teykiki

Linkedin

แชร์ไปยัง:

Facebook

X

สำนักงานใหญ่: ห้อง 9A, 728 ถนนยานอานตะวันตก เขตฉางหนิง เซี่ยงไฮ้


โรงงาน Ⅰ：เลขที่ 1160 ถนนซินซิงสาย 3

เขตพัฒนาอุตสาหกรรมและเทคโนโลยีผิงหู ผิงหู เจ้อเจียง จีน


โรงงาน Ⅱ: A06 เขตอุตสาหกรรมถัวหลิงโถว หยางฉวน ซานซี จีน

เราจะตอบกลับอีเมลของคุณโดยเร็วเพื่อช่วยตอบคำถามของคุณ

ที่อยู่

NanoFiltech

© 2026 NanoFiltech  สงวนลิขสิทธิ์ทั้งหมด | นโยบายความเป็นส่วนตัว

ยินดีต้อนรับสู่สำนักงานของเราและพบปะกับเรา

ติดต่อเรา