NanoFiltech
Polski

Ekspansja produkcji chipów AI napędza popyt na zaawansowaną filtrację powietrza w cleanroomach półprzewodnikowych

Utworzono 10.26

Rozbudowa produkcji chipów AI napędza popyt na zaawansowaną filtrację powietrza w cleanroomach półprzewodnikowych

0

Przemysł półprzewodnikowy wkracza w nową falę rozbudowy cleanroomów

Szybki rozwój sztucznej inteligencji przekształca globalny krajobraz produkcji półprzewodników.
W miarę wzrostu popytu na procesory AI, zaawansowane pamięci, szybkie łącza optyczne i sprzęt półprzewodnikowy nowej generacji, producenci w całym łańcuchu dostaw półprzewodników zwiększają moce produkcyjne i inwestują w nową infrastrukturę produkcyjną.
We wrześniu 2026 roku ASML ogłosił rozpoczęcie budowy nowego kampusu produkcyjnego BIC North w Holandii. Oczekuje się, że rozbudowa obejmie nową przestrzeń cleanroomową wspierającą montaż zaawansowanych urządzeń do produkcji półprzewodników.
Jednocześnie producenci półprzewodników i firmy technologiczne nadal zwiększają moce produkcyjne komponentów wspierających centra danych AI i obliczenia o wysokiej wydajności.
Za tymi dużymi inwestycjami w półprzewodniki kryje się wymóg infrastrukturalny, który przyciąga znacznie mniej uwagi publicznej:
zaawansowana kontrola zanieczyszczeń i filtracja powietrza w cleanroomach półprzewodnikowych.
W miarę jak procesy produkcji półprzewodników stają się coraz bardziej zaawansowane, kontrola cząstek unoszących się w powietrzu, zanieczyszczeń molekularnych i warunków przepływu powietrza staje się kluczowa dla utrzymania stabilnych środowisk produkcyjnych.

Dlaczego filtracja powietrza jest kluczowa w produkcji półprzewodników

Produkcja półprzewodników odbywa się w ściśle kontrolowanych środowiskach, w których nawet niezwykle małe zanieczyszczenia powietrza mogą zakłócać wrażliwe procesy produkcyjne.
Potencjalne zanieczyszczenia obejmują:
  • l Drobne i ultradrobne cząstki
  • l Cząstki generowane przez proces
  • l Zewnętrzne zanieczyszczenia atmosferyczne
  • l Gazy kwaśne i zasadowe
  • l Lotne związki organiczne (LZO)
  • l Zanieczyszczenia molekularne w powietrzu (AMC)
Nowoczesne zakłady półprzewodnikowe opierają się zatem na wielostopniowych systemach filtracji powietrza, a nie na pojedynczym filtrze.
Typowy system uzdatniania powietrza w cleanroomie może integrować:
Filtracja wstępna → Filtracja średniej wydajności → Filtracja HEPA/ULPA → Filtracja końcowa FFU
W zależności od wymagań procesu może być również wprowadzona filtracja chemiczna w celu kontroli lotnych zanieczyszczeń molekularnych.
To sprawia, że filtracja jest integralną częścią infrastruktury kontroli zanieczyszczeń w produkcji półprzewodników.

Filtry HEPA i ULPA do czystych pomieszczeń w produkcji półprzewodników

Filtracja HEPA

Filtry HEPA (High Efficiency Particulate Air) są szeroko stosowane w systemach HVAC czystych pomieszczeń, systemach filtracji końcowej i jednostkach filtrujących wentylatorowych (FFU).
Zapewniają wysokowydajne usuwanie cząstek stałych, jednocześnie wspierając wymagania dotyczące czystości kontrolowanych środowisk produkcyjnych.
Typowe zastosowania obejmują:
  • · Filtracja sufitowa w cleanroomach
  • · Jednostki filtrowentylacyjne (FFU)
  • · Centrale wentylacyjne (AHU)
  • · Miniaturowe środowiska dla urządzeń
  • · Obszary produkcji półprzewodników
  • · Cleanroomy w produkcji elektroniki
W przypadku bardziej wymagających procesów może być wymagana wyższa skuteczność filtracji.

Filtracja ULPA

Filtry ULPA (Ultra Low Penetration Air) są przeznaczone do zastosowań wymagających wyjątkowo wysokiej skuteczności usuwania cząstek.
Są powszechnie brane pod uwagę w krytycznych środowiskach półprzewodnikowych, gdzie stężenie cząstek w powietrzu musi być utrzymywane na wyjątkowo niskim poziomie.
Typowe zastosowania obejmują zaawansowaną produkcję półprzewodników, przetwarzanie płytek, precyzyjną elektronikę i inne ultraczyste środowiska produkcyjne.
Jednak sama skuteczność filtracji nie jest już wystarczająca.
Wraz ze wzrostem przepływu powietrza w cleanroomach spadek ciśnienia staje się kolejnym ważnym czynnikiem.

Dlaczego niski spadek ciśnienia ma znaczenie we współczesnych cleanroomach

Systemy HVAC i FFU w cleanroomach w sposób ciągły cyrkulują duże ilości filtrowanego powietrza.
Każdy filtr stwarza opór przepływu powietrza.
Wraz ze wzrostem spadku ciśnienia wentylatory wymagają dodatkowej mocy, aby utrzymać wymagany przepływ powietrza. W przypadku setek, a nawet tysięcy filtrów końcowych działających w sposób ciągły, różnica w oporze filtrów może wpływać na całkowite zużycie energii w obiekcie.
Dlatego współczesna filtracja w cleanroomach półprzewodnikowych coraz częściej koncentruje się na jednoczesnym osiągnięciu dwóch celów:
Wysoka skuteczność filtracji + niski opór przepływu powietrza
Zaawansowane media filtracyjne odgrywają zatem coraz ważniejszą rolę.

Media filtracyjne z nanowłókien: wsparcie dla wysokiej skuteczności i niskiego oporu

Technologia filtracji z nanowłókien oferuje inne podejście do wysokowydajnej filtracji cząstek stałych.
Niezwykle drobna struktura włókien tworzy warstwę filtracyjną zdolną do wychwytywania drobnych cząstek, jednocześnie umożliwiając projektowanie struktur filtracyjnych o stosunkowo niskim oporze przepływu powietrza.
W porównaniu z rozwiązaniami filtracyjnymi opierającymi się głównie na grubszych konwencjonalnych strukturach mediów filtracyjnych, odpowiednio zaprojektowane media nanowłókniste mogą zapewnić korzystną równowagę między:
  • · Wysoką skutecznością wychwytywania cząstek
  • · Niskim początkowym spadkiem ciśnienia
  • · Stabilną wydajnością przepływu powietrza
  • · Lekką konstrukcją medium filtracyjnego
  • · Energooszczędną filtracją
Te cechy sprawiają, że technologia filtracji nanowłóknistej jest szczególnie istotna w zastosowaniach HVAC w cleanroomach i FFU, gdzie duże ilości powietrza muszą być stale filtrowane.

Filtracja chemiczna w przypadku zanieczyszczeń molekularnych w powietrzu

Cząstki nie są jedynym wyzwaniem związanym z zanieczyszczeniami w produkcji półprzewodników.
Niektóre procesy mogą być również narażone na działanie zanieczyszczeń molekularnych w powietrzu (AMC).
Typowe zanieczyszczenia molekularne mogą obejmować:
  • · Gazy kwaśne
  • · Gazy alkaliczne
  • · Lotne związki organiczne
  • · Zanieczyszczenia organiczne
  • · Pary chemiczne związane z procesem
W przeciwieństwie do filtrów HEPA i ULPA, które głównie kontrolują zanieczyszczenia cząstkowe, filtry chemiczne wykorzystują specjalistyczne media adsorpcyjne do usuwania określonych zanieczyszczeń gazowych ze strumienia powietrza.
Z tego powodu zaawansowane zakłady półprzewodnikowe mogą łączyć:
Filtrację cząstek + Filtrację chemiczną
aby stworzyć bardziej kompleksową strategię kontroli zanieczyszczeń.

Systemy FFU i filtracja końcowa w czystych pomieszczeniach

Jednostki filtrujące z wentylatorem (FFU) są kolejnym krytycznym elementem systemów przepływu powietrza w czystych pomieszczeniach dla półprzewodników.
FFU integruje wentylator z filtrem o wysokiej wydajności, aby dostarczać filtrowane powietrze bezpośrednio do kontrolowanego środowiska.
Duże czyste pomieszczenia dla półprzewodników mogą obsługiwać rozległe sieci FFU w celu utrzymania:
  • · Wymaganego przepływu powietrza
  • · Czystość pomieszczenia
  • · Relacje ciśnieniowe
  • · Limity stężenia cząstek
  • · Stabilne warunki środowiskowe
Najnowsze badania nad pomieszczeniami czystymi podkreślają również znaczenie koordynacji przepływu powietrza AHU i FFU w celu utrzymania odpowiednich warunków ciśnieniowych w pomieszczeniu czystym.
Oznacza to, że przyszły projekt pomieszczeń czystych coraz częściej wykracza poza pojedyncze komponenty w kierunku optymalizacji przepływu powietrza i filtracji na poziomie systemu.

Rozwiązania filtracji powietrza NanoFiltech do produkcji półprzewodników

W miarę ciągłego rozwoju zdolności produkcyjnych półprzewodników systemy filtracji muszą spełniać coraz bardziej wymagające wymagania dotyczące czystości, stabilności przepływu powietrza i efektywności energetycznej.
NanoFiltech dostarcza produkty filtracji powietrza i wysokowydajne media filtracyjne do zastosowań w pomieszczeniach czystych i przemysłowych systemach HVAC.
Nasza oferta filtracji do półprzewodników i pomieszczeń czystych obejmuje:

Filtry HEPA

Zaprojektowane do wysokowydajnej filtracji cząstek stałych w systemach HVAC cleanroom, systemach filtracji terminalnej i innych kontrolowanych środowiskach.

Filtry ULPA

Wysokowydajne rozwiązania filtracyjne do zastosowań wymagających niezwykle rygorystycznej kontroli cząstek zawieszonych w powietrzu.

Jednostki filtrowentylacyjne (FFU)

Zintegrowane systemy wentylatorów i filtracji zaprojektowane do zastosowań w sufitach cleanroomów i kontrolowanych środowiskach produkcyjnych.

Filtry chemiczne

Rozwiązania filtracyjne zaprojektowane, aby pomóc kontrolować zanieczyszczenia gazowe i lotne zanieczyszczenia molekularne w wrażliwych środowiskach produkcyjnych.

NANOAIRMedia filtracyjne z nanowłókien

Wysokowydajne media filtracyjne z nanowłókien opracowane w celu połączenia wysokiej wydajności filtracji z niskim oporem przepływu powietrza.

CHEMCAREMedia do filtracji chemicznej

Funkcjonalne media adsorpcyjne zaprojektowane do zastosowań wymagających kontroli zanieczyszczeń gazowych i molekularnych.
Razem te technologie pozwalają na konfigurację systemów filtracji zgodnie z różnymi poziomami czystości, wymaganiami dotyczącymi przepływu powietrza i strategiami kontroli zanieczyszczeń.

Od wydajności filtra do całkowitej wydajności cleanroomu

Rozwój przemysłu półprzewodników zmienia sposób, w jaki należy oceniać filtrację w cleanroomach.
Wybór filtra wyłącznie na podstawie jego nominalnej wydajności jest coraz częściej niewystarczający.
Inżynierowie cleanroomów i operatorzy obiektów powinni uwzględnić pełny profil operacyjny, w tym:
  • · Wydajność filtracji
  • · Początkowy spadek ciśnienia
  • · Rozwój spadku ciśnienia
  • · Wymagania dotyczące przepływu powietrza
  • · Charakterystyka cząstek
  • · Ryzyko zanieczyszczenia molekularnego
  • · Żywotność filtra
  • · Zużycie energii przez HVAC
  • · Warunki eksploatacji cleanroom
Celem nie jest po prostu instalacja filtra o wyższej wydajności.
Celem jest stworzenie systemu filtracji, który utrzymuje wymagany poziom czystości, jednocześnie wspierając stabilną i energooszczędną eksploatację cleanroom.

Przygotowanie filtracji cleanroom do następnej generacji produkcji półprzewodników

AI, zaawansowane przetwarzanie danych i elektronika nowej generacji przyspieszają inwestycje w całym łańcuchu dostaw półprzewodników.
W miarę budowy nowych fabryk, zakładów produkujących sprzęt i zaawansowanych cleanroomów, filtracja powietrza pozostanie fundamentalną częścią kontroli zanieczyszczeń w przemyśle półprzewodnikowym.
Następna generacja filtracji cleanroomów będzie w coraz większym stopniu wymagać połączenia:
Wyższa wydajność, niższe opory, zaawansowane media filtracyjne, kontrola AMC, inteligentne zarządzanie przepływem powietrza, niższe zużycie energii w cyklu życia
NanoFiltech nadal rozwija zaawansowane materiały filtracyjne i rozwiązania w zakresie filtracji powietrza dla środowisk produkcyjnych o wysokiej czystości w przemyśle półprzewodnikowym, elektronicznym, farmaceutycznym i innych.
W przypadku projektów cleanroomów dla przemysłu półprzewodnikowego NanoFiltech może wspierać dobór filtrów zgodnie z wymaganą skutecznością, przepływem powietrza, spadkiem ciśnienia, konfiguracją instalacji i wymaganiami dotyczącymi kontroli zanieczyszczeń.
Kontakt NanoFiltech w celu omówienia rozwiązań filtracyjnych HEPA, ULPA, FFU, filtracji chemicznej i mediów filtracyjnych z nanowłókien dla Twojego projektu cleanroomu.
Tey Jun Yong / Teykiki

Linkedin

Udostępnij:

Facebook

X

Siedziba główna: Pokój 9A, 728 Yan'an West Road, Dzielnica Changning, Szanghaj


Fabryka Ⅰ：Nr 1160, Xinxing 3rd Road

Strefa Rozwoju Ekonomiczno-Technologicznego Pinghu, Pinghu, Zhejiang, Chiny


Fabryka Ⅱ: A06, Strefa Przemysłowa Tuolingtou, Yangquan, Shanxi, Chiny

Niezwłocznie odpowiemy na Twój e-mail, aby pomóc odpowiedzieć na Twoje pytania

Adres

NanoFiltech

© 2026 NanoFiltech  Wszelkie prawa zastrzeżone | Polityka prywatności

Zapraszamy do naszego biura i poznaj nas

Skontaktuj się z nami